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高純試劑主要用于化學研究等專業(yè)領域
  • 更新日期:2019-07-22      瀏覽次數:1673
    •    高純試劑在通用試劑基礎上發(fā)展起來的,是為了專門的使用目的而用特殊方法生產的純度高的試劑。高純試劑控制的是雜質項含 量,基準試劑控制的是主含量,基準試劑可用標準溶液的配制,但高純試劑不能用于標準溶液的配制(單質氧化物除外)。目前在上也無統一的明確規(guī)格,我國 除對少數產品制定了國家標準外,大部分高純試劑的質量標準還很不統一,在名稱上也有高純、超純、特純、光譜純、電子純等不同叫法。一般以9來表示產品的純度。
        高純試劑是進行化學研究、成分分析的相對標準物質,是科技進步的重要條件,廣泛用于物質的合成、分離、定性和定量分析,可以說是化學工作者的眼睛,在工廠、學校、醫(yī)院和研究所的日常工作中,都離不開化學試劑。
        高純試劑通常應用于專業(yè)領域,例如針對色譜使用的色譜純試劑、針對光譜使用的光譜純試劑。此外,電路、液晶等領域都有各自行業(yè)標準的高純試劑。
      電子微加工技術用超凈高純試劑的品種已超過30種,目前應用廣泛的有10多種。依照其用途,可以劃分為光刻膠配套試劑、濕法蝕刻劑和濕法工藝試劑;依照其性質則可以分為:無機酸類、無機堿類、有機溶劑類及其他類型超凈高純試劑,如表12-4所示。資料顯示,超凈高純試劑在半導體工業(yè)中的消耗比例大致為:硫酸約占27%~33%,鹽酸約占3%~8%,其他酸約占10%~20%,氨水約占8%,有機溶劑約占10%~15%,雙氧水約占8%~22%,其他蝕刻劑約占12%~20%。
       

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